ISBN/价格: | 978-7-03-042826-4:CNY150.00 |
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ISBN/价格: | CNY12000.00 (80册) |
作品语种: | chi |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 金刚石膜制备与应用/.吕反修主编 |
出版发行项: | 北京:,科学出版社:,2015 |
载体形态项: | xxv, 764, [4] 页图版:;+图:;+24cm |
丛编项: | 纳米科学与技术 |
一般附注: | 国家出版基金项目 |
提要文摘: | 本书全面、系统、深入地论述了化学气相沉积 (CVD) 金刚石膜的制备、组织结构和性能表征, 金刚石膜化学气相沉积理论, 以及在电学 (电子学) 、热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用, 在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景。本书为下卷。 |
题名主题: | 类金刚石膜 研究 |
中图分类: | TB43 |
个人名称等同: | 吕反修 主编 |
记录来源: | CN RENTIAN 20150417 |
记录来源: | CN PCL 20180323 |